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급속 열처리 시스템

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보유기관명	나노종합기술원
보유기관코드
활용범위
활용상태
표준코드	C601
표준분류명	시험
시설에볼루션 바카라 무료 설명	- 할로겐 램프를 이용하여 급속 열처리 - 파이로미터를 이용하는 간접 온도 리딩 방식" 2. 구성 - Main Body Dimension(WHD) : 1020mm * 2080mm * 1070mm - Process : N2 O2 Ar - Main Power : 3 Phase AC220V 60Hz 3. 사용예 - Wafer anneal Silicide FormationCMOS Tr 제작 - 상온증착 산화물의 결정화 - 산화막 형성 - 박막의 고온 조직 분석 - 이온 주입 시 dopant 재 분포 방지 및 활성화 - 금속 전극의 ohmic contact-Silicide 형성
에볼루션 바카라 무료이미지코드	https://www.zeus.go.kr/storage/images//equip/photo/201101/20110126154803.gif
에볼루션 바카라 무료위치주소	카이스트 부설 나노종합기술원 나노종합기술원
NFEC 등록번호	NFEC-2011-01-137232
예약방법
카타로그 URL
메뉴얼 URL
원문 URL	https://www.zeus.go.kr/cloud/resvEq/read/Z-201902085570?cloudId=200711140047
첨부파일

기업조회